इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड कार्बन टेट्राफ्लुओराइड CF4 99.999% माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग में सबसे व्यापक रूप से उपयोग किया जाने वाला प्लाज्मा एचिंग गैस है। यह व्यापक रूप से पतली फिल्म सामग्री जैसे सिलिकॉन, सिलिकॉन डाइऑक्साइड, सिलिकॉन नाइट्राइड, फॉस्फोरस सिलिकॉन ग्लास और टंगस्टन में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है। यह व्यापक रूप से इलेक्ट्रॉनिक उपकरण सतह की सफाई, सौर सेल उत्पादन, लेजर प्रौद्योगिकी, कम तापमान प्रशीतन, गैस इन्सुलेशन, रिसाव का पता लगाने वाले एजेंट, अंतरिक्ष रॉकेट दृष्टिकोण पर नियंत्रण, डिटर्जेंट, मुद्रित सर्किट उत्पादन में स्नेहक और ब्रेक द्रव इसकी मजबूत रासायनिक स्थिरता के कारण, इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड कार्बन टेट्राफ्लोराइड cf4 99.999% का उपयोग धातु स्मेल्टिंग और प्लास्टिक उद्योगों में भी किया जा सकता है। आज के अल्ट्रा-बड़े पैमाने पर एकीकृत सर्किट में उपयोग किए जाने वाले इलेक्ट्रॉनिक गैसों की विशेषताओं और विकास की प्रवृत्ति अल्ट्रा-शुद्ध, अल्ट्रा-स्वच्छ, बहु-विविधता और बहु-विनिर्देश हैं। अपने स्वयं के माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के विकास को बढ़ावा देने के लिए, देश विशेष इलेक्ट्रॉनिक गैस उत्पादन प्रौद्योगिकी के विकास पर अधिक से अधिक ध्यान दे रहे हैं। वर्तमान में, कार्बन टेट्राफ्लोराइड (CF4) ने लंबे समय से अपनी अपेक्षाकृत कम कीमत के साथ एचिंग गैस बाजार पर कब्जा कर लिया है, इसलिए इसमें व्यापक विकास क्षमता है।

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